PACVD
PACVD = Deposição de vapor químico assistida por plasma

                
Para a elaboração de revestimentos de carbono isentos de metal, a Oerlikon Balzers emprega o processo PACVD de alta freqüência.

A configuração empregue neste processo é similar à seguida para a pulverização catódica. Porém, após a crepitação da película aderente metálica, é aplicada uma tensão AC de alta-freqüência.

Ao introduzir-se o gás que contém os elementos de revestimento, ocorre uma descarga de gás na câmara do processo. Isto cria átomos de carbono e hidrogênio (íons e radicais) que formam um revestimento denso nas ferramentas e nos componentes. A variação na tensão aplicada influencia as propriedades do revestimento.
1 Argônio
2 Gás reativo
3 Componentes
4 Revestimento de plasma
5 Conexão por alta-freqüência
6 Bomba de vácuo
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Sistemas e Processos