Pulverização catódica incrementada
O princípio que rege a pulverização catódica incrementada é similar ao do processo de pulverização catódica. Uma descarga por arco de baixa tensão no centro da câmara aumenta a intensidade do plasma em várias vezes, produzindo assim um grau muito maior de ionização.
1 Fonte do feixe eletrônico
2 Argônio
3 Gás reativo
4 Fonte de evaporação por magnetron planar (material de revestimento)
5 Componentes
6 Descarga por arco de baixa tensão
7 Ânodo auxiliar
8 Bomba de vácuo
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Sistemas e Processos