No processo reativo por pulverização catódica, as peças na câmara de vácuo a serem revestidas são previamente aquecidas. Em seguida, são cauterizadas ionicamente por bombardeio com íons de argônio. Isto torna a superfície metálica pura e limpa, livre de qualquer contaminação atômica – condição essencial para se promover a aderência do revestimento.
É aplicada então uma alta tensão negativa às fontes de pulverização catódica que contêm o material de revestimento. A descarga elétrica de gás resultante promove a formação de íons de argônio positivos que são acelerados na direção do material de revestimento, que por sua vez é atomizado pelo bombardeio. As partículas evaporadas do metal pulverizado reagem com o gás que é introduzido na câmara e que contém o componente não-metálico do revestimento duro a ser aplicado.
O resultado é a deposição nos substratos de um revestimento fino e compacto apresentando a estrutura e composição desejadas.
1 Argônio
2 Gás reativo
3 Fonte de evaporação por magnetron planar (material de revestimento)
4 Componentes
5 Bomba de vácuo
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