A tecnologia está baseada na evaporação por arco utilizando tecnologia pulsada. O processo pode levar-se a cabo numa atmosfera de oxigénio puro. A emissão de electrões e a densidade do plasma controlam-se por meio de corrente pulsada.
Com a tecnologia P3eTM é possível depositar óxido de qualquer metal (Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) e combinações.
1 Oxigénio O2
2 Fontes de arco (material de revestimento)
3 Componentes / Ferramentas
4 Fonte de alimentação para a evaporação pulsada do arco catódico
5 Fonte de alimentação para a criação de pulsos de alta tensão de substratos
6 Bomba de vácuo
