Es un proceso similar al sputtering. La diferencia estriba en una descarga de arco de bajo voltaje en el centro de la cámara. Esto aumenta varias veces la intensidad del plasma y el grado de ionización es mucho mayor.
1 Fuente del haz de electrones
2 Argón
3 Gas reactivo
4 Fuente evaporación (material de recubrimiento)
5 Componentes
6 Descarga de arco de bajo voltaje
7 Ánodo auxiliar
8 Bomba de vacío
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