Esta tecnología esta basada en la evaporación por arco utilizando tecnología pulsada. El proceso puede llevarse a cabo en una atmósfera de oxígeno puro. La emisión de electrones y la densidad del plasma se controlan mediante la corriente pulsada.
Con la tecnología P3eTM es posible depositar óxido de cualquier metal (Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) y combinaciones.
1 Oxigeno O2
2 Fuentes de arco (material de recubrimiento)
3 Componentes / Herramientas
4 Fuentes de alimentación para la evaporación pulsada del arco catódico
5 Fuente de alimentación para la creación mediante pulsos de alta tensión de sustratos
6 Bomba de vacío
