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P3e™ 기술은 펄스 기술을 사용한 아아크 이온 플레이팅에 기초를 둡니다. 이프로세스는 순수산소 환경하에서도 응용이 가능 합니다. 전자의 방출과 플라즈마의 밀도는 펄스 전류에 의해 조절되어 집니다.
P3e™ 기술을 사용하여 Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, 등과 같은 금속 산화물과 이러한 산화물에 조합물도 증착이 가능합니다.
1 Oxygen O2
2 아크원 (코팅 재료)
3 부품 / 공구
4 Power supply for pulsed cathodic arc evaporation
5 Power supply for high power pulsed substrate bias
6 진공 펌프
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