공구와 정밀부품의 표면처리 공정
전해 도금/화학 도금(경질 크롬, 니켈)
장점:
•  우수한 내 부식성
•  낮은 공정 온도
•  내경 및 슬롯 등에 증착 가능
단점:
•  코팅 재질 선택의 한계
•  비교적 연질 코팅
•  반응조 부산물(청산염,중금속,불화물,기름류 등)의 생태학적 문제점
•  표면 정밀도 재연성의 한계
확산 공정(질화법,질화-탄화법,보로나이징,포스페이팅)
장점:
•  우수한 내 부식성
•  우수한 재연성
단점:
•  비교적 연질 코팅
•  모재 선택의 한계(반드시 질화처리에 적합하여야 함)
•  긴 공정 시간
•  공정 부산물이 환경 및 신체에 미치는 악영향
•  후처리
화학적 기상 증착법
CVD (Chemical Vapour Deposition)
장점:
•  우수한 내마모성
•  경제적인 후막 증착 공정
•  내경 및 슬롯 등에 증착 가능
단점:
•  높은 공정 온도
•  금속 화합물 코팅은 불가능
•  날카로운 모서리 형성은 불가능 (코팅 두께)
•  생태계적 독성 물질인 금속 염화물의 사용
플라즈마 화학 기상 증착법
PACVD (Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition)
장점:
•  화학 기상 증착법(CVD)과 비교하여 현저히 낮은 공정 온도
•  정밀한 코팅
•  낮은 공정 온도
단점:
•  내경 또는 슬롯 코팅에의 제한성
물리적 기상 증착법
PVD (Physical Vapour Deposition)
장점:
•  친환경적인 공정
•  여러 종류의 코팅 가능
•  대부분의 금속 열처리 온도보다 낮은 코팅 공정 온도
•  코팅 두께의 정밀성 및 재연성
•  우수한 내마모성
•  낮은 마찰 계수
단점:
• 

내경 또는 슬롯 등에 코팅 시 코팅 면적의 한계

(구멍의 경우 코팅 가능한 깊이는 내경 직경과 같음)

•  제한적인 내부식성
• 

균일한 코팅 두께를 유지하기 위하여 공정 중 제품을 회전시켜야 함

 

• 

내경 또는 슬롯 등에 코팅 시 코팅 면적의 한계

(구멍의 경우 코팅 가능한 깊이는 내경 직경과 같음)

•  제한적인 내부식성
• 

균일한 코팅 두께를 유지하기 위하여 공정 중 제품을 회전시켜야 함

 

P3e™ (pulse Enhanced Electron Emission)

장점:

• 

PVD 기술이 가지고 있는 모든 장점들

• 

다양한 oxide 베이스의 코팅이 가능

• 

PVD 공정에 의한 첫번째 alpha-aluminium oxide 베이스의 코팅

• 

Alpha-aluminium oxide를 증착 시 CVD(1000°C)와 비교하여 낮은 증착온도(600°C)

 

단점:
• 

PVD 기술과 같음

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