P3e™ (パルス強化電子放出法)

このテクノロジーはパルステクノロジーを用いたアーク蒸着をベースにしています。プロセスは純粋な酸素雰囲気中で行われ、電子放出とプラズマ密度はパルス電流で制御されます。

 

P3eTM テクノロジーは様々な酸化金属(Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) と、それらの組み合わせによる蒸着が可能です。

1 酸素(O2

2 アークソース (コーティング材)
3 部品 / ツール

4 電源(パルス・カソード・アーク蒸着用)
5 電源(高圧パルス基盤バイアス用)
6 真空ポンプ

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装置およびプロセス