PVD = 物理的蒸着（Physical Vapour Deposition ）

PVD 工程は、150～500℃の温度で、高真空の中で行われます。

高純度の、コーティング材(チタン、クロム、アルミなどの金属類)を、熱またはイオン・ボンバード（スパッタリング）のどちらかによって、蒸発させます。この時、同時に反応ガス（窒素ガスや炭素を含むガス）を導入します；それは、金属蒸気との複合物を形成し、工具や部品の上に、薄い、密着性の高い膜として析出されます。均一な膜厚を達成するには、部品は、数本の軸の周りを一定の速度で、回転してなければなりません。

コーティングの特性（硬度、構造、耐腐食性、耐熱性、密着性等）は、精確にコントロールされます。

PVDプロセスには、 アーク・エバポレーション, スパッタリング, イオン・プレーティング, エンハンスド・スパッタリングが含まれます。