Il principio sottostante alla polverizzazione avanzata è simile al processo di polverizzazione. Una scarica ad arco a bassa tensione al centro della camera rende l'intensità del plasma diverse volte maggiore e quindi produce un grado di ionizzazione molto maggiore.
1 Sorgente di fascio di elettroni
2 Argo
3 Gas reattivo
4 Sorgente di evaporazione magnetron planare (materiale di rivestimento)
5 Componenti
6 Scarica ad arco a bassa tensione
7 Anodo ausiliario
8 Pompa a vuoto
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