PACVD (Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition)
(plazma aktiválású kémiai legőzölés)
A fémmentes szénbevonatok kialakításához az Oerlikon Balzers a nagyfrekvenciájú PACVD eljárást alkalmazza.
A folyamat elrendezése a besugárzáshoz hasonlít. A fémes ragasztóanyag réteg besugárzása után nagyfrekvenciájú, váltakozó áramú feszültséget kapcsolnak be.
A folyamatkamrában a gázkisülés azt követően megy végbe, hogy a bevonóanyagot tartalmazó gázt bevezették. Itt műanyag- és hidrogénatomok (ionok és gyökök) keletkeznek, amelyek a szerszámokon és a gépelemeken kompakt bevonatot képeznek. A rákapcsolt feszültség változtatásával lehet a bevonat tulajdonságait befolyásolni.
1 Argon
2 Reakciós gáz
3 Munkadarabok
4 Plazmaszórás
5 Nagyfrekvenciájú csatlakozás
6 Vákuumszivattyú
|
