Az eljárás az ionbesugárzáshoz hasonlóan működik. A berendezés közepén végbemenő, alacsony feszültségű ívkisülésnek köszönhetően a plazmaintenzitás a sokszorosára nő, és ennek köszönhetően sokkal magasabb ionizációs fok érhető el.
1 Elektron besugárzó forrás
2 Argon
3 Reakciós gáz
4 Planáris magnetron porlasztó forrás (bevonat anyaga)
5 Munkadarabok
6 Alacsony feszültségű ívkisülés
7 Segédanód
8 Vákuumszivattyú
