|
A PVD-eljárás
PVD =Physical Vapour Deposition (fizikai elgözölés)
A PVD-folyamatok erős vákuumban, 150 és 500°C közötti hőmérsékleten mennek végbe.
A rendkívül tiszta, nagyon finom bevonatoló anyag (fémek, mint például a titán, a króm vagy az alumínium) feloldása vagy a hőmérséklet segítségével (elpárologtatás) történik, vagy ionokkal történő bombázás következtében. Ezzel egyidejűleg egy reaktív gáz (pl. nitrogén, széntartalmú gáz) is bevezetésre kerül, amely a fémgőzökkel kapcsolatba lépve a szerszámokon, illetve a gépelemeken vékony, szilárdan tapadó rétegként csapódik le. Ahhoz, hogy mindenhol azonos bevonatvastagság alakuljon ki, a bevonatolás során az alkatrészek egyenletesen forognak több tengely körül.
A bevonat tulajdonságai (mint például a keménység, a struktúra, a vegyi és termikus ellenállóképesség, a tapadószilárdság) célirányosan vezérelhetők.
A PVD-eljárásokhoz tartozik az Arc Evaporation, aSputtern, az Ionplatingés az Enhanced Sputtern.
|
|
|
|
