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Diese Technologie basiert auf Arc-Verdampfung mittels Pulstechnologie. Der Prozess wird in einer reinen Sauerstoff-Atmosphäre gefahren. Elektronenemissionen und Plasmadichte werden durch einen kontrollierten Pulsstrom erhöht.
Mittels P3eTM Technologie ist es nun möglich, sämtliche Aluminiumoxidschichten (Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) herzustellen.
1 Sauerstoff O2
2 Arc-Quellen (Beschichtungsmaterial)
3 Bauteile / Werkzeuge
4 Netzteil für gepulste Arc-Verdampfung
5 Netzteil für Hochfrequenzanschluss
6 Vakuumpumpe
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