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CVD (Chemical Vapour Deposition)
Vorteile:
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wirtschaftliche Herstellung größerer Schichtdicken |
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auch für Bohrungen, Schlitze usw. geeignet |
Bei diesem Verfahren zu beachten:
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hohe Prozesstemperaturen |
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Kanten verrunden (Schichtdicke) |
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Verwendung umweltbelastender, giftiger Metallchloride |
PACVD (Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition)
Vorteile:
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wesentlich niedrigere Prozesstemperaturen als beim CVD möglich |
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präzise Schichten |
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tiefe Temperaturen |
Bei diesem Verfahren zu beachten:
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für Bohrungen, Schlitze usw. nur bedingt geeignet |
PVD (Physical Vapour Deposition)
Vorteile:
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große Schichtvielfalt herstellbar |
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Beschichtungstemperatur unter der Vergütungsendtemperatur der meisten Stähle |
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geringe, präzise reproduzierbare Schichtdicke (hohe Konturentreue, beste Größenanpassung, |
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hohe Verschleißfestigkeit |
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niedrige Reibwerte |
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keine umweltbealstenden Stoffe und Emissionen, keine toxischen Reaktionsprodukte |
Bei diesem Verfahren zu beachten:
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Bohrungen, Schlitze etc. können nur bis zu einer Tiefe beschichtet werden, die dem Durchmesser bzw. der Breite der Öffnung entspricht |
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bedingte Korrosionsbeständigkeit |
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um eine gleichmäßige Schichtdicke zu erzielen, müssen die zu beschichtenden Teile während des Prozesses rotieren |
P3e™ (Pulse Enhanced Electron Emission)
Vorteile:
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Alle Vorteile der PVD-Technologie |
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Eine große Auswahl an Oxid-basierten Schichten sind möglich |
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Die erste Alpha-Aluminiumoxid-basierte Schicht per PVD-Prozess |
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Niedrigere Beschichtungstemperaturen (600°C) im Vergleich zu CVD (1'000 °C) möglich |
Bei diesem Verfahren zu beachten:
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