Ion plating je proces PVD, který využívá reaktivní odpařování s pomocí elektronového paprsku. Pokud se při naprašování eroduje nanášený materiál na kovové desce ostřelováním argonovými ionty, při Ion plating se kovová komponenta nanášeného materiálu (například titan nebo chrom) odpařuje nízkonapěťovým elektrickým obloukem.
1 Zdroj elektronového paprsku
2 Argon
3 Reakční plyn
4 Nástroje
5 Nanášený materiál
6 Kelímek (anoda)
7 Výboj nízkonapěťového elektrického oblouku
8 Vakuové čerpadlo
|
