欧瑞康巴尔查斯涂层

PVD工艺

PVD=物理气相沉积

在高真空、温度介于150到500℃时进行PVD处理。

通过加热或离子轰击（喷射）使坚固的高纯度涂层材料（金属，如钛、铬和铝）蒸发。同时，加入反应气体（例如氮或含碳气体），这些气体与金属蒸气反应生成化合物，然后沉积在工具或元件上形成薄而高度粘附的涂层。为了使涂层厚度均匀，以匀速绕多个轴旋转零件。

涂层的属性（例如硬度、结构、耐化学性和耐温性、附着性）可得到精确控制。

PVD工艺包括电弧蒸镀、溅射、离子电镀和增强溅射。


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		系统和工艺