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BALINIT® 的优势
巴尔查斯涂层指南
BALINIT® 涂层
涂层技术
表面处理工艺
PVD 工艺
P3e™
溅射
增强溅射
电弧蒸镀
离子电镀
PACVD
涂层服务
内部中心
涂层系统
工具和精密元件的表面处理工艺
电镀或化学镀(硬铬,化学镍)
优点:
耐腐蚀性强
工艺温度低
也可在钻孔、狭槽等位置沉积
缺点:
涂层材料的选择范围受限制
涂层相对较软
处理溶液(含氰化物、重金属、氟化物、油和油脂)存在生态问题
表面复制的精度有限
扩散工艺(氮化、硝基碳化、硼化、磷酸盐化等)
优点:
耐腐蚀性强
加工重复性好
缺点:
涂层相对较软
基底材料的选择受限制(必须适合于氮化)
处理时间长
处理过程中产生的物质会危害环境和健康
需要有后期处理
CVD(化学气相沉积)
优点:
耐磨性更高
可经济地生产厚涂层
也适用于钻孔、狭槽等
缺点:
操作温度高
无法产生含多种金属的涂层(例如,TiAlN)
边缘变圆(由于涂层厚度)
使用存在生态问题的有毒金属氯化物
PACVD(等离子增强化学气相沉积)
优点:
与CVD相比,可达到非常低的操作温度
涂层精确
处理温度低
缺点:
对钻孔、狭槽等不太适用
PVD(物理气相沉积)
优点:
不含危害环境的物质和排放物,不存在毒性反应产品
可生成许多种涂层
涂层温度低于大多数钢材的最终热处理温度
微小、精确的再生涂层厚度(精确的表面复制,大小一致)
耐磨性更高
摩擦系数低
缺点:
钻孔、狭槽等的涂层深度只能达到与开口直径或宽度相等
仅在特定条件下才具有抗腐蚀性
为了使涂层厚度均匀,操作过程中必须旋转零件
P3eTM (强脉冲电弧蒸发)
优点:
所有PVD技术的优点
提供所有氧化涂层的可能性
PVD工艺下的第一款氧化铝涂层
与化学涂层(1000
。
C)相比在形成氧化铝涂层时拥有低的沉积温度(600
。
C)
缺点:
同PVD涂层技术
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