Epaisseurs de couche et températures de dépôt en fonction des différents procédés
1 Projection plasma
2 Dépôt électrolytique et chimique
3 Phosphatation
4 Nitruration (couche blanche)
5 Boruration
6 CVD
7 PVD, PACVD
8 P3e™
PVD = Physical Vapour Deposition (dépôt physique en phase vapeur)
PACVD = Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma)
P3e™ = Pulse Enhanced Electron Emission