Le placage ionique est un procédé PVD qui utilise l'évaporation par faisceau d'électrons. Alors que pour la pulvérisation, on se sert d'un bombardement avec de l'argon ionisé pour extraire le matériau à déposer d'une plaque métallique, pour le placage ionique, on a recours à un arc à basse tension pour évaporer le composant métallique de la future couche (titane ou chrome, par exemple).
1 Source du faisceau d'électrons
2 Argon 3 Gaz réactif 4 Substrats
5 Matériau à déposer 6 Creuset (anode) 7 Arc à basse tension 8 Pompe à vide
