PACVD = Plasma-Assisted Chemical Vapour Deposition 

Om metaalvrije koolstofcoatings te produceren maakt Oerlikon Balzers gebruik van hoge frequentie PACVD processen.

De setup die in dit proces wordt gebruikt, is vergelijkbaar met deze van sputtering. Maar na het sputteren van een metallische hechtingsfilm wordt een hoge frequentie AC spanning toegepast. 

Door toevoeging van een gas dat de coatingelementen bevat, ontstaat een gasontlading in de procesruimte. Hierdoor ontstaan koolstof- en waterstof- atomen die een dichte coating vormen op de gereedschappen en componenten. Door in te spelen op de toegepaste spanning, kunnen de coatingeigenschappen beïnvloed worden.