Ion plating is een PVD proces dat gebruik maakt van reactieve elektronenverspreiding. Sputtering maakt gebruik van een bombardement van argonionen om coatingmateriaal te verwijderen; bij ionplating, wordt deze metallische component (vb. titanium of chromium) verdampt door middel van lage spanning in een boog.
1 Eleckronenbron
2 Argon
3 Reactief gas
4 Te coaten delen
5 Coatingmateriaal
6 Smeltkroes (anode)
7 Verspreiding onder lage spanning
8 Vacuümpomp
|
