|
De technologie is gebaseerd op arc verdampen gebruik makend van pulse technologie. Het proces kan lopen in een pure zuurstof atmosfeer. Elektron emissie en plasma dichtheid zijn gecontroleerd door de pulse-stroom.
Met de P3eTM technologie is het mogelijk om elke metallisch oxide (Al2O3, ZrO2, Cr2O3, Ta2O5, etc.) in combinatie aan te brengen.
1 Zuurstof O2
2 Arc bronnen (coating materiaal)
3 Componenten / Gereedschappen
4 Stroomvoorziening voor de pulsed cathodic arc verdamping
5 Stroomvoorziening voor de high power pulsed substraat bias
6 Vacuüm pomp
|
