PVD = Physical Vapour Deposition

PVD processen gebeuren onder vacuüm en bij temperaturen tussen 150 en 500 °C.

Het hoogwaardige en zuivere coating materiaal (metalen zoals titanium, chroom en aluminium) wordt verdampt door warmte of door sputtering van ionen. Tegelijkertijd wordt er een reactief gas toegevoegd (stikstof of koolstofgas). Dit vormt een verbinding met het verdampte metaal en wordt afgezet op gereedschappen en componenten. Om een gelijkmatige coatinglaag te bekomen, roteren de delen met gelijkmatige snelheid rond verschillende assen.

De eigenschappen van de coating (zoals hardheid, structuur, chemische en temperatuurweerstand, hechting) worden strikt gecontroleerd.

De PVD processen zijn arc verdamping, sputtering, ion plating en doorgedreven sputtering.