Ähnlich wie das Sputtern funktioniert das Enhanced Sputtern. Dank einer Niedervoltbogenentladung in der Anlagenmitte wird die Plasmaintensität um ein Mehrfaches gesteigert und dadurch ein viel höherer Ionisierungsgrad erreicht.
1 Elektronenstrahlquelle
2 Argon
3 Reaktionsgas
4 Planare Magnetron-Zerstäubungsquelle (Beschichtungsmaterial)
5 Werkstücke
6 Niedervoltbogenentladung
7 Hilfsanode
8 Vakuumpumpe
|
