PACVD
PACVD = deposición química de vapor asistida por plasma

                
Oerlikon Balzers Coating emplea el proceso de alta frecuencia PACVD para producir recubrimientos de carbono sin presencia metálica.

La configuración usada en este proceso es similar a la del sputtering. Sin embargo, tras depositar una capa metálica de adherencia se aplica voltaje de CA de alta frecuencia.

Al introducir un gas que contiene los elementos de recubrimiento se produce una descarga de gas en la cámara de proceso. Esto genera átomos de carbono e hidrógeno (iones y radicales) que forman un recubrimiento grueso sobre los útiles y componentes. Al cambiar la tensión aplicada se influye sobre las propiedades del recubrimiento.

1 Argón
2 Gas reactivo

3 Componentes
4 Envoltura de plasma
5 Conexión de alta frecuencia
6 Bomba de vacío

Para obtener más información
Sistemas y procesos