La evaporación iónica es un proceso PVD que utiliza la evaporación por haz electrónico. Mientras que el sputtering emplea el bombardeo con iones de argón para extraer el material de recubrimiento, en la evaporación iónica, el material de recubrimiento (p. ej. titanio o cromo) se evapora mediante un arco de baja tensión.
1 Fuente del haz de electrones
2 Argón
3 Gas reactivo
4 Componentes
5 Material de recubrimiento
6 Crisol (ánodo)
7 Descarga de arco de bajo voltaje
8 Bomba de vacío
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